東京応化工業(tok)は、半導体やディスプレイの製造に必要なフォトレジストなどの化学薬品、製造装置を提供している会社です。

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環境活動

CSR情報

リサイクルの推進、化学物質の安全管理、省エネルギーに向けた
取り組みなど、当社の環境方針に基づく活動をご紹介します。

環境配慮型技術の開発と新たな事業機会の創出

当社グループは事業を通じた脱炭素への貢献として、半導体のさらなる微細化と消費電力低減を実現するEUV/ArF用フォトレジストや、3D-NAND向けのKrF用フォトレジスト、パワー半導体向けi線用フォトレジスト/プラズマアッシング装置/ウエハハンドリングシステム等の開発や安定供給に注力
しています。なかでも再生エネルギーシステムや電気自動車、ハイブリッドカー等の省エネ制御を行うパワー半導体の製造に欠かせないg線・i線用フォトレジストにおいては、世界トップシェア*を維持しています。

加えて、「技術イノベーション」に向けては、電力効率を大きく向上させる次世代Ga2O3 (酸化ガリウム)/SiC(炭化ケイ素)/GaN(窒化ガリウム)パワー半導体向け材料の開発や、消費電力が5Gの100 分の1 となる次世代通信規格(6G)向け材料の開発を加速しています。特にパワー半導体関連事業では、多くのお客様と20~30年超の長期に渡って築いてきた信頼関係を今後もさらに発展させることで、脱炭素に向けた共有価値をロングランで創造していきます。

*2020年の見込み出荷数量ベース(富士キメラ総研『2020先端/注目半導体関連市場の現状と将来展望』)

脱炭素に貢献する新たな技術開発

「ケミカルループ反応」による社内循環型エコシステムの開発

足元における新たな取組みとして、「ケミカルループ反応」による社内循環型エコシステムの開発に注力しています。

反応に空気を用いず、超高濃度のCO2を回収

当社は、製造工程で生じた有機溶剤廃液を一部リサイクルし、燃焼・無害化したうえで排出しています。これらの廃液を空気中で通常に燃焼した場合、排ガスには燃焼に用いられなかった空気中のO2やN2が多く含まれており、CO2の含有率は約13%*にとどまることから、CO2を分離回収するには多くのエネルギーを必要とします。また、通常は空気中のN2も酸化され、火力発電所は、一般的に30~100ppm(脱硝対策後の値)のサーマルNOxを排出するとされています。
これに対し、当社が現在開発を進めている「ケミカルループ反応」を用いたシステムでは、反応に空気中の酸素は用いず、反応条件の制御/最適化によって高濃度のCO2を選択的に取り出すことが可能であり、また、反応温度が通常の燃焼反応に比べ低温であるため、サーマルNOxを極限まで抑えることが可能です。現在の実験機による検討では、CO2への変換効率95%以上、NOx値1~10ppm程度(現状での測定限界下限値)というデータが得られており、当該システムの優位性が確認できています。現在、当社内での実用化を目指し大学等研究機関との共同研究を進めているほか、その後は、当システムと連携した再エネルギー化やCO2転換等にも取り組んでいきます。

クリアすべき課題がまだ多い当システムですが、当社ならではのロングランの開発を粘り強く継続することで、「脱炭素」に貢献していく所存です。
* 計算値ベース

環境貢献製品

ブラックレジスト

液晶ディスプレイのカラー表示に不可欠なカラーフィルターと呼ばれる部材は、光の3原色である赤・緑・青にブラックマトリクス※と呼ばれる黒色を加えた4色で構成されています。このうちブラックマトリクスは、従来Cr(クロム)を使って形成されていましたが、環境への配慮から、クロムに替わって黒色のフォトレジスト(ブラックレジスト)を用いるようになってきています。

 当社では、このブラックレジストを戦略製品の一つに位置づけ、製品開発に取り組んでいます。

カラーフィルター概略図

※ブラックマトリクスとは、赤(R)・緑(G)・青(B)の3色を囲む格子状の黒部分のことで、画像のコントラストを向上させます。

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