これまでもこれからも
社会貢献し続ける東京応化

「どのような困難があったとしても、社会に役立つ、他社が手掛けないような製品の開発に挑戦したい」 という強い理想を掲げた創業者・向井繁正は、1934年、炭坑用キャップライト向け蓄電池材料を足掛け 6年の苦労の末に開発。
1936年に東京応化研究所を設立し、1940年に東京応化工業株式会社が誕生しました。

1968年にフォトレジスト事業を本格化させた当社は、微細加工技術と高純度化技術を活かし、1971年に環境対応型合成ゴム系レジスト、1972年に 国産初の半導体用ポジ型フォトレジストを開発。 半導体製造に欠かせない“ フォトレジストの東京応化”として、電卓の高性能化、ワープロやPCの登場に 貢献するなど、ビジネスの効率化を支えました。

1993年、アメリカ・オレゴン州に海外初の製造工場を開設しました。
日本国内においては、1994年の郡山工場の開設により増産体制を強化。
1997年に開発したKrF用フォトレジストは、世界標準品として多くの半導体メーカーに採用されました。 以降も国内外の開発・生産体制を強化し、 フォトレジストというニッチな高付加価値分野で、世界トップメーカーとしての地位を固めていきました。