これまでもこれからも
社会貢献し続ける東京応化

「どのような困難があったとしても、社会に役立つ、他社が手掛けないような製品の開発に挑戦したい」 という強い理想を掲げた創業者・向井繁正は、1934年、炭坑用キャップライト向け蓄電池材料を足掛け 6年の苦労の末に開発。
1936年に東京応化研究所を設立し、1940年に東京応化工業株式会社が誕生しました。

1968年にフォトレジスト事業を本格化させた当社は、微細加工技術と高純度化技術を活かし、1971年に環境対応型合成ゴム系レジスト、1972年に 国産初の半導体用ポジ型フォトレジストを開発。 半導体製造に欠かせない“ フォトレジストの東京応化”として、電卓の高性能化、ワープロやPCの登場に 貢献するなど、ビジネスの効率化を支えました。

1993年、アメリカ・オレゴン州に海外初の製造工場を開設しました。
日本国内においては、1994年の郡山工場の開設により増産体制を強化。
1997年に開発したKrF用フォトレジストは、世界標準品として多くの半導体メーカーに採用されました。 以降も国内外の開発・生産体制を強化し、 フォトレジストというニッチな高付加価値分野で、世界トップメーカーとしての地位を固めていきました。

当社グループの海外売上高比率は、2004年に50%を超えました。
半導体産業の成長が著しいアジアでの顧 客密着戦略の強化に向けて、2012年に TOK尖端材料社（韓国）、2014年に台湾東應化社 銅鑼工場を新設。開発・製造・営業 の三位一体で顧客の「生の声」にスピーディに対応する同様の体制を米国・日本でも 強化し、マーケティングも拡充することで、EUV用フォトレジストをはじめとする半導体最先端分野での強みを構築しています。