半導体製造分野

ICやLSIなどの半導体の微細化に、フォトレジストやフォトリソグラフィ関連材料・装置による多元的なアプローチで応えます。

多種多様な半導体デバイスにお応えするために、マイクロメートルから最先端のナノメートル領域まで、各種デバイス製造に最適なフォトレジストや関連装置を提供。

東京応化工業(tok)は、半導体製造用フォトレジストにおいて世界トップクラスのシェアを有しています。g線用、i線用フォトレジストをはじめ、ナノメートル領域に対応するKrF用、ArF用の各種フォトレジストをラインナップに加えて市場のニーズにお応えする一方で、顧客との協業や共同開発機関への参加などを実施しつつ、次世代材料(EUV用など)の開発も積極的に進めています。

フォトレジストとともに半導体の製造に欠かせない、洗浄液やシンナー、現像液などの高純度化学薬品については、近年、その重要性が広く再認識されるようになり、需要が拡大しています。超高純度化技術は当社が創業以来培ってきたコア技術であり、この分野においても世界トップレベルの技術力を有しています。