半導体製造に必要不可欠な化学薬品
フォトレジスト

フォトレジストは感光性材料と呼ばれ、光に反応して変化する材料です。
半導体デバイスの製造に関わるフォトリソグラフィという技術に必要不可欠な化学薬品です。
半導体デバイスの製造では、露光工程という写真製版技術を応用し、
原版（フォトマスク）に描かれた設計図をシリコンチップ上に縮小転写しています。
省電力・高性能な半導体を作るには、転写される回路をより小さくしていくことが求められ、
TOKのフォトレジストは、その要望に応えるために、日々進化しています。