東京応化工業(tok)は、半導体やディスプレイの製造に必要なフォトレジストなどの化学薬品、製造装置を提供している会社です。

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新規事業分野

製品情報

東京応化工業(TOK)は「Challenge to the Future ! 」のスローガンのもと、営業部門と技術部門とを一体化した「新事業開発本部」を設置しております。
TOKがリソグラフィ技術を用いた微細加工技術で培った高分子設計/製造技術や超高純度化技術をコア技術として、顧客および外部機関との提携などを通じ、イノベーションを加速させることで、ユニークかつ高付加価値な材料をご提案します。

UVナノインプリント用材料

TOKのUVナノインプリント材料は透明性が高く低屈折率から高屈折率まで様々な仕様を揃えています。光学回折素子やAR waveguide、3Dセンサー等の光学部材に使用される複雑な微細構造やマイクロレンズ形成が可能です。

ナノインプリント_SEM

ラインナップ

ナノインプリント_ラインナップ
品名

屈折率

@589nm

透過率%

@589nm

ヘイズ塗布方法

TPIRTM-2000S NL

(製品)

1.50> 99%< 0.1%Spin ~2 µm

高屈折率グレード

(開発品)

1.76> 99%< 0.1%Spin ~3 µm

無溶剤-高屈折率グレード

(開発品)

1.71> 95%< 0.1%

Spin ~50 µm,

Dispensing

低屈折率グレード

(開発品)

1.36> 99%< 0.1%Spin ~4 µm

想定用途

  • 回折光学素子
  • 拡張現実向けデバイス用導波路
  • 顔認証等に用いられるディフューザ

TPIRTM-2000S NL

高耐久UVナノインプリント材料、屈折率1.50@589nm
各種信頼性試験において極めて高い耐久性を持っています

ナノインプリント_グラフ_all

参考データ

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