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技術紹介

技術紹介

ナノインプリント用材料(スピンオン無機系/有機系SiO2被膜)

最先端の技術で幅広いユーザーニーズに応えるTOKのナノインプリントのソリューション
HSQ(無機系)ナノインプリント材料
特長
高耐熱性(1000℃以上)
誘電率(ε =3.0~3.1)<400℃>
形状写真

室温インプリント

モールド離形後

モールド離形後

300℃ Cure後

300℃ Cure後

800℃ Cure後

800℃ Cure後

1000℃ Cure後

1000℃ Cure後
高屈折率(有機系)ナノインプリント材料
特長
厚膜塗布可能(3μm)
高屈折率(RI 1.56)
高透過率(98%以上)
形状写真

室温インプリントモールド離形後

200nm Line

モール200nm Line

40nm Line / Space

40nm Line / Space

150nm Hole

150nm Hole
マイクロレンズ形状形成写真

室温インプリント

モールド離形後

モールド離形後

1μm Dot

リフロー後

リフロー後
透過率
Transmittance Data

※写真ご提供 : 兵庫県立大学理学部大学院 高度産業科学技術研究所 松井真二教授

お問い合わせ: 営業開発部 TEL.044-435-3001 FAX.044-435-3021
※営業時間 8:45~12:00 13:00~17:30
(土・日・祝祭日・その他特定日は除きます)