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技術紹介

技術紹介

ナノインプリント用材料(スピンオン無機系/有機系SiO2被膜)

最先端の技術で幅広いユーザーニーズに応えるTOKのナノインプリントのソリューション
HSQ(無機系)ナノインプリント材料
特長
高耐熱性(1000℃以上)
誘電率(ε =3.0~3.1)<400℃>
形状写真

室温インプリント

モールド離形後

モールド離形後

300℃ Cure後

300℃ Cure後

800℃ Cure後

800℃ Cure後

1000℃ Cure後

1000℃ Cure後
お問い合わせ: 新事業開発部 TEL.0467-75-2151 FAX.0467-75-2158
※営業時間 8:30~12:00 13:00~17:15
(土・日・祝祭日・その他特定日は除きます)