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半導体以外の分野での適応が可能です
データストレージやMEMSなどの半導体以外の分野での適応が可能です。
データストレージの磁気ヘッド加工プロセスでのパターニング例
For EB with EP-GM Series
Trench 70 nm → 40 nm
Initial
処理1回
処理2回
処理3回
After Removal of
SAFIER
120 ℃
C.D.
70 nm
58 nm
48 nm
41 nm
