半導体デバイスの高集積化や高速化に伴い、トランジスタや配線の微細化が急速に進んでいます。
こうした流れに対して、当社は、新しい発想をもとに、「SAFIER
®
」を用いたプロセスを開発しました。これにより現状の光源を使用したままで、一世代先の微細加工を可能にしました。
このプロセスは、世代間の限界を越えた画期的な超解像技術であり、既存の光源を延命化しつつ、新たな微細化を切り拓くプロセス技術です。
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