東京応化工業(tok)は、半導体や液晶ディスプレイの製造に必要なフォトレジストなどの化学薬品、製造装置を提供している会社です。

ナノインプリント用材料

ナノインプリント用材料

技術情報

半導体デバイス製造用材料で培った技術を基に、
室温ナノインプリントにソリューションをご提供します。

最先端の技術で幅広いユーザーニーズに応える                                 tokのナノインプリントのソリューション

HSQ(無機系)ナノインプリント材料

特長
  • 高耐熱性(1000℃以上)
  • 誘電率(ε =3.0~3.1)<400℃>
形状写真

室温インプリント

室温プリント

技術情報一覧へ

ナノインプリント用材料