東京応化工業(tok)は、半導体や液晶ディスプレイの製造に必要なフォトレジストなどの化学薬品、製造装置を提供している会社です。

半導体製造分野

半導体製造分野

製品情報

ICやLSIなどの半導体の微細化に、フォトレジストやフォト

リソグラフィ関連材料・装置による多元的なアプローチで応えます。

多種多様な半導体デバイスにお応えするために、マイクロメートルから最先端のナノメートル領域まで、各種デバイス製造に最適なフォトレジストや関連装置を提供。

スマートフォンやタブレットPCといった情報端末、またさまざまな家電製品やパソコン/自動車/精密機械など、あらゆる分野で利用されている半導体デバイス。さらにサーバーやスーパーコンピュータなど、最先端の技術にも広く使われています。こうしたデバイスの利用拡大に伴い、現在では、多種多様な半導体デバイスが生み出されています。

東京応化工業(tok)では、幅広い多彩な市場ニーズに応えるために、サブミクロン領域のプロセスをターゲットにしたg線/i線用フォトレジストを、またナノメートル領域に対応したKrF/ArF用フォトレジストを製品化しています。さらにArF液浸用フォトレジストや次世代の光源とされるEUV/電子ビーム用のフォトレジストに対しても積極的に開発を進めています。

同時に、10ナノメートル台をターゲットとした超微細な加工技術を実現するために新しい発想を取り入れ、あらゆる角度から検証を重ね、そしてさまざまな研究活動を通して、最先端のフォトレジスト開発を進めています。また、フォトレジスト以外にも現像液/剥離液/シンナーといった多くの高純度化学薬品も提供しています。東京応化工業(tok)は、最新のプロセス技術と各種プロセス機器を融合した総合力で半導体製造を支えています。

半導体製造イメージ
半導体製造材料
塗布装置 CSシリーズ

用語集

g線・i線・KrFエキシマレーザー・ArFエキシマレーザー

フォトリソグラフィプロセスでの露光光源の名称。より微細な加工を行うため、波長が次の通り短波長化されてきた。
g線(波長436 nm)→i線(波長365 nm)→KrFエキシマレーザー(波長248 nm)→ArFエキシマレーザー(波長193 nm)

液浸露光技術

液体の屈折率を利用して、さらに微細な加工を行う技術。露光機の投影レンズと、露光対象となるフォトレジストとの間に液体を満たして露光する。

EUV

ArFエキシマレーザーの次の露光光源として有望視されている波長13.5 nmの極端紫外線。

電子線

陰極から発生する放射線。

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