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パソコンや携帯電話などエレクトロニクス機器の進化の歴史は、ICやLSIといった半導体の高度化の歴史でもあります。 極めて微細化の進んだ半導体製造分野において、TOKは、フォトレジスト（感光性樹脂）をはじめ、微細化を可能とする最先端の製品群をご提供することによって貢献してきました。 TOKは、g線用、i線用フォトレジストから、さらにはKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー用フォトレジストまで、他にないフルラインナップで幅広くお客様をサポートしています。 さらに、ArFエキシマレーザー液浸、EUV(極端紫外線）、電子線露光などの次世代以降のさらなる微細化に向けた技術に対応するため、分子レベルの設計から、新技術の開発・確立に積極的に取り組んでいます。 また、フォトレジストに加えて多彩なフォトリソグラフィ関連材料・製造装置を展開しているアドバンテージを最大限に生かした多方向からの多元的なアプローチ、複数の材料を組み合わせたソリューション、さらには新しい発想のプロセスのご提案など、お客様のニーズに応えるべく最適な微細加工技術をご提供しています。 |
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