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フォトレジストの耐熱性、エッチング特性、めっき耐性を向上します。 |
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■真空UVキュア
真空中でUVキュアを行うことにより、厚膜フォトレジストに対して効率的に硬化が可能です。
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■シンプル
パラメータが少なく、設定が容易に行えます。搬送系など高い信頼性を持ち、非常に安定しています。
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■めっき工程におけるUVキュアの効果
標準条件では膨潤するめっきプロセスでも、UVキュアを行うことにより安定した形状が得られます。
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■耐熱性の向上
UVキュアを行うことにより、20 μm膜厚のフォトレジストでも300 ℃以上の耐熱性を付与することが可能です。
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