• 私たちの仕事
  • 製品
  • 技術紹介
  • IR情報
  • 企業情報
  • ニュースリリース
  • HOME
HOME > 製品 > 材料・装置一覧：半導体製造分野

製品

材料・装置一覧

半導体製造分野
PAGE INDEX
材料
最新フォトレジストパターン微細化プロセス
  • フォトレジストパターンシュリンクプロセス用材料
  • 液浸リソグラフィ用カバーコート
フォトレジスト
  • ArFエキシマレーザー(193nm)液浸リソグラフィ用フォトレジスト
  • ArFエキシマレーザー(193nm)用フォトレジスト
  • EUV用フォトレジスト
  • 電子線露光(Electron Beam)用フォトレジスト
  • KrFエキシマレーザー(248nm)用フォトレジスト
  • i線(365nm)用フォトレジスト
  • g線(436nm)用フォトレジスト
平坦化絶縁膜・層間絶縁膜関連材料
  • 無機SiO2系被膜形成用塗布液（SOG材料）
  • 有機SiO2系被膜形成用塗布液（SOG材料）
不純物拡散材料
  • 高濃度拡散剤
フォトリソグラフィ関連材料
  • フォトレジスト剥離液
  • フォトレジスト現像液
  • リンス液
  • シンナー
  • 保護膜用樹脂溶液
  • 高純度水溶性樹脂溶液
  • ナノインプリント用樹脂
ウェハ薄片化プロセス関連材料・装置
TWMシリーズ

▲TWMシリーズ

TWRシリーズ

▲TWRシリーズ
  • TWMシリーズ〔150／200／300 mmウェハ対応〕（ウエハ貼付装置）
  • 仮止材
  • TWRシリーズ〔150／200／300 mmウェハ対応〕（サポート板分離装置）
このページの先頭へ
装置
ノンスピンコーター（塗布装置）／スピンコーター（塗布装置）／現像装置
 
  • TR6133UD〔75／100／125／150／200 mmウェハ対応〕
    （SOD／フォトレジストスピンコーター）
  • CSシリーズ〔75／100／125／150／200／300 mmウェハ対応〕
    （SOD／フォトレジストスピンコーター）
  • CSHシリーズ〔75／100／125／150／200／300 mmウェハ対応〕
    （高速フォトレジスト現像装置）
UVハードニング装置
TVC-8000シリーズ

▲TVC-8000シリーズ
  • TVC-8000シリーズ〔75／100／125／150／200 mmウェハ対応〕
    （真空UVハードニング装置）
薬液供給装置
  • TAS-1000シリーズ（現像液自動希釈供給装置）
  • TADR-2000シリーズ（現像液自動調整供給装置）
  • OSシリーズ（薬液自動供給装置）
このページの先頭へ