nano tech 2010 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議出展のお知らせ

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会　　　期：	2010年2月17日(水)～2月19日(金)
開催時間：	10:00～17:00
展示会場：	東京ビッグサイト
出展場所：	東5ホール　C-45
出展製品：	ナノインプリント・インプリント転写材料無機SiO2室温インプリント材料(OCNLシリーズ) 透明永久膜光硬化性インプリント材料(TPIR シリーズ) 光学永久膜材料高屈折率光/熱硬化性素材(TPIRシリーズ) 低屈折率光/熱硬化性素材(TPIRシリーズ) 透明保護膜素材(ガラス、プラスティック用)(TPIR シリーズ) 透明絶縁膜材料透明感光性絶縁膜材料(OLIMシリーズ)
お問い合わせ：	ナノインプリント材料、光学永久膜材料、透明絶縁膜材料営業開発部 TEL.044-435-3001　FAX.044-435-3021 ※営業時間　8:45～12:00　13:00～17:30 (土・日・祝祭日・その他特定日は除きます)

東京応化は、半導体やフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造に必要なフォトレジスト（感光性樹脂）などの化学薬品、製造装置を提供している会社です。