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IR情報

FAQ(よくあるご質問)

沿革

質問会社が設立されたのはいつですか?
回答1936年に東京応化研究所として創業し、1940年に東京応化工業株式会社を設立いたしました。2000年に当社は60周年を迎えました。
質問上場したのはいつですか?
回答1986年7月に東京証券取引所市場第二部に上場し、1990年9月に市場第一部銘柄に指定されました。

株式

質問証券コードは何ですか?
回答東京応化の証券コードは4186です。
質問名義書換や相続など、株式の諸手続の連絡先はどこでしょうか?
回答三菱UFJ信託銀行株式会社です。詳しくはこちらをご覧下さい。
質問1単元の株式数は何株ですか?
回答100株です。

決算・財務関連

質問決算発表はいつですか?
回答例年、第1四半期決算発表は8月初~中旬に、中間決算発表は11月中~下旬に、第3四半期決算発表は2月初~中旬に、期末決算発表は5月中~下旬に行っております。詳しくはこちらをご覧下さい。
なお、決算資料等につきましては、当ホームページに掲載いたします。
質問決算資料を見たいのですが?
回答概要・推移・決算短信等につきましてはこちらを、説明会につきましてはこちらをご覧下さい。

事業関連

質問どの様な事業を行っていますか?
回答半導体・フラットパネルディスプレイ・パッケージモジュール用のフォトレジストを中心としたフォトリソグラフィ関連材料、また、半導体・液晶パネル用製造装置等の最先端微細加工分野で必要不可欠な製品を供給しております。また、化学/電子/医薬/食品/繊維で用いられる高純度の化学薬品を供給しております。
各分野の材料および装置等の製品のご紹介につきましてはこちらをご覧下さい。
質問フォトレジストとは何ですか?
回答フォトレジストとは、光に反応して化学的に作用・変化する樹脂で、感光性樹脂とも呼ばれています。半導体・フラットパネルディスプレイ・半導体パッケージ/実装・プリント配線板分野等の微細加工で必要不可欠な材料として広く用いられております。
フォトレジストは光をあてると(露光すると)どの様に変化するのですか?
回答フォトレジストは、露光した後に現像という処理を行うと、ネガ型フォトレジストは露光された部分が像として残り、ポジ型フォトレジストは露光されなかった部分が像として残ります。
写真1は露光・現像後の写真で、赤矢印の部分が像として残ったフォトレジストです。
質問フォトレジストにはどの様な種類のものがありますか?
回答フォトレジストには、大別して液状のものと薄いフィルム状に成型されたドライフィルムレジストと呼ばれるものがあります。
半導体・フラットパネルディスプレイの分野では主に液状のフォトレジストが使用され、プリント配線板の分野では主にドライフィルムレジストが使用されております。
質問フォトレジストはどの様な役割を果たしているのですか?
回答例えば薬品を用いて処理を行う工程では、薬品で処理を行いますと、フォトレジストの像がある部分は薬品の影響を受けず、像のない部分のみ削るなどの処理を行うことができます。
写真2では、赤い部分が処理され、青い部分はフォトレジストに保護されるため、処理が行われません。
この様にフォトレジストを利用することにより、選択的な処理が可能となります。
ご注意
  • 本データ上の情報は収録時点のものであり、その後変更されている可能性があります。また、それに含まれます将来に対する見通し、予想等につきましては、その時点までに入手可能な情報から得られた当社の経営者の判断に基づいており、実際には様々な重要な要因によりこの見通し、予想等とは異なる結果となる可能性があるため、この見通し、予想等のみに全面的に依拠されません様、お願いいたします。また、その時点以降に修正されている場合がありますため、最新の資料をご入手いただくなど、必ずご確認いただきます様、お願いいたします。
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