|
|
|
| 1936年04月 | ： | 東京市品川区に東京応化研究所として発足。 |
|---|---|---|
| ： | 精製水酸化カリウムの製造を開始。 | |
| 1937年04月 | ： | 塩化ナフタリンの製造を開始。 |
| 1938年10月 | ： | 水酸化ナトリウムの製造を開始。 |
| 1940年10月 | ： | 東京応化工業株式会社に改組。 |
| 1941年09月 | ： | 試薬水酸化カリウム、水酸化ナトリウムの製造を開始。 |
| 1948年06月 | ： | 塩化ベンジルの製造を開始。 |
| 1949年09月 | ： | ベンジルアルコール、ベンジルアセテート等の製造を開始。 |
| 1955年05月 | ： | オーカシール（白黒テレビ蛍光体接着剤）の製造を開始。 |
| 1956年10月 | ： | 桂皮酸の製造を開始。 |
| 1962年10月 | ： | TPR（プリント基板用フォトレジスト）の製造を開始。 |
| 1965年05月 | ： | ニューファインゾール（亜鉛版高速腐蝕添加剤）の製造を開始。 |
| 1967年01月 | ： | 相模工場（現 相模事業所）を開設。 |
| 1968年03月 | ： | OMR-81（半導体用ネガ型フォトレジスト）の製造を開始。 |
| 1971年02月 | ： | OPM（プラズマ灰化剥離装置）を開発。 |
| 10月 | ： | OMR-83（半導体用ネガ型フォトレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | OCD（半導体用不純物塗布拡散剤）の製造を開始。 |
| 1972年12月 | ： | OFPR-2（国産初の半導体用ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 1974年03月 | ： | 新技術開発事業団（現 独立行政法人科学技術振興機構）の開発委託を受け、トプロン（ナイロン系感光性樹脂版）を開発。 |
| 1975年06月 | ： | エラスロン（フレキソ印刷用感光性ゴム版）を開発。 |
| 1976年10月 | ： | リジロン（紙型・母型取り用水溶性感光性樹脂版）を開発。 |
| 1977年09月 | ： | OAPM（世界初の全自動枚葉式プラズマエッチング装置）を開発。 |
| 1978年02月 | ： | OEBR（超LSI用電子ビーム用フォトレジスト）を開発。 |
| 06月 | ： | ODUR（Deep UVレジスト）を開発。 |
| 1979年03月 | ： | ミラクロン（一般印刷用水溶性感光性樹脂版）を開発。 |
| 11月 | ： | OFPR-800（LSI用ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 1980年11月 | ： | 第1回東京応化セミナー(技術セミナー)を開催。 |
|---|---|---|
| ： | OMR-85（半導体用ネガ型フォトレジスト）を開発。 | |
| 1981年06月 | ： | 初の本格的半導体用フォトレジスト量産工場として宇都宮工場を開設。 |
| 07月 | ： | スピンコーターTR5000（SOG・フォトレジスト塗布装置）を開発。 |
| 12月 | ： | OPM-Aシリーズ（完全自動プラズマアッシング装置）を開発。 |
| 1982年02月 | ： | リジロンPOP（新聞直刷用水溶性感光性樹脂版）の製造を開始。 |
| 06月 | ： | 両面ロールコーター（プリント基板用フォトレジスト塗布装置）を開発。 |
| 1983年02月 | ： | 相模第二工場（現 湘南テクニカルセンター）を開設。 |
| 06月 | ： | オーディル（プリント基板用ドライフィルムレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | 化学薬品製造工場として熊谷工場を開設。 |
| ： | OBM-3000（縦型ベーク炉）を開発。 | |
| 1984年01月 | ： | 感光性樹脂版専用工場として山梨工場を開設。 |
| 04月 | ： | OFPR-5000（超LSI用ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 10月 | ： | プロセス機器工場（相模第二工場内／現 湘南テクニカルセンター）竣工。 |
| 12月 | ： | 阿蘇工場を開設。 |
| 1985年07月 | ： | クリーンストリップ（剥離液）を開発。 |
| 10月 | ： | TSMR-8800（サブミクロン対応高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| ： | SWK-436（半導体用反射防止膜）を開発。 | |
| 1986年01月 | ： | TCAシリーズ（枚葉式ダメージフリークリーンアッシング装置）を開発。 |
| 06月 | ： | OPSR-8000（溶剤現像型フォトソルダーレジスト）を開発。 |
| 07月 | ： | 東京証券取引所市場第二部へ株式を上場。 |
| 12月 | ： | OCD Type-7（SiO2系被膜形成用SOG）を開発。 |
| 1987年03月 | ： | TVC-5002（真空UVハードニング装置）を開発。 |
| ： | 米国カリフォルニア州にオーカ・アメリカ社（現 TOKアメリカ社）を設立。 | |
| 05月 | ： | 財団法人東京応化科学技術振興財団を設立。 |
| 06月 | ： | OPSR-5500（弱アルカリ現像型フォトソルダーレジスト）を開発。 |
| ： | TSMR-8700、8900（サブミクロン対応高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 | |
| ： | 御殿場工場を開設。 | |
| 09月 | ： | 英国にオーカ（ユー・ケー）社（後にオーカ・ヨーロッパ社に社名変更。2006年2月にTOKヨーロッパ社に営業の全部を譲渡）を設立。 |
| 11月 | ： | TSMR-365iB（i線用高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | TSMR-Vシリーズ（サブミクロン対応高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 1988年04月 | ： | TSMR-CRシリーズ（サブミクロン対応高反射基板用高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 07月 | ： | TUEシリーズ（枚葉式多目的プラズマエッチング装置）を開発。 |
| 09月 | ： | OPM-2000シリーズ（バッチ式低ダメージアッシング装置）を開発。 |
| 1989年04月 | ： | 米国オレゴン州にT.O.K.インターナショナル社を設立。 |
| 06月 | ： | TR25000シリーズ（大型角基板対応スピンコーターシステム）を開発。 |
| 10月 | ： | 生野工場を開設。 |
| 11月 | ： | 第10回東京応化セミナーを開催。 |
| 1990年03月 | ： | TSシリーズ（SOG塗布・ベーク一貫処理システム）を開発。 |
|---|---|---|
| 08月 | ： | OPM-2800シリーズ（200mmウェハ対応バッチ式低ダメージアッシング装置）を開発。 |
| 09月 | ： | 東京証券取引所市場第一部に指定替え。 |
| 10月 | ： | TCA-2800シリーズ（200mmウェハ対応枚葉式2チャンバー低ダメージアッシング装置）を開発。 |
| 11月 | ： | 第1回東京応化セミナーin KOREAを開催。 |
| 1991年01月 | ： | THMR-iP1700、iP1800（ハーフミクロン対応高解像度i線用ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| ： | TFR-B2（TFT-LCD用高感度ポジ型フォトレジスト）を開発。 | |
| 03月 | ： | TR11000シリーズ（中型角基板対応スピンコーター）を開発。 |
| 05月 | ： | THMR-iP2000（ハーフミクロン対応高解像度・高DOFマージンi線用ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | CFPR（LCDカラーフィルター製造用顔料分散型ネガ型フォトレジスト）を開発。 |
| 1992年04月 | ： | TSCRシリーズ（ハーフミクロン対応i線用高反射基板用超高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 10月 | ： | TOKエンジニアリング株式会社を設立。 |
| ： | TSMR-V90（サブミクロン対応超高解像度g線用ポジ型フォトレジスト）を開発。 | |
| ： | THMR-iP3100（ハーフミクロン対応i線用ハイパフォーマンスポジ型フォトレジスト）を開発。 | |
| 12月 | ： | オーカ・アメリカ社、T.O.K.インターナショナル社合併（オーカ・アメリカ社／現 TOKアメリカ社）。 |
| 1993年03月 | ： | TCA-3800シリーズ（枚葉式低ダメージ高速アッシング装置）を開発。 |
| ： | TCE-4800シリーズ（低ダメージイオンストリームエッチング装置）を開発。 | |
| ： | オーディルα-400（高性能ドライフィルムレジスト〈メッキ・エッチング兼用型〉）を開発。 | |
| 05月 | ： | オーカ・アメリカ社（現 TOKアメリカ社）オレゴン工場稼働。 |
| 11月 | ： | THMR-iP3300（サブハーフミクロン対応i線用ハイコントラストポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | OPSR-5800（弱アルカリ現像型フォトソルダーレジスト）を開発。 |
| ： | TR28000シリーズ（大型角基板対応スピンコーターシステム）を開発。 | |
| 1994年02月 | ： | 郡山工場を開設。 |
| 05月 | ： | 第1回東京応化セミナーin TAIWANを開催。 |
| 09月 | ： | オーカフレックス（高性能フレキソ印刷用感光性ゴム版）を開発。 |
| 10月 | ： | THMR-iP3500（i線用ハイコントラストポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 1995年01月 | ： | TDUR-P007/009（KrFエキシマレーザー用高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 03月 | ： | TR36000シリーズ（大型角基板対応スピンコーターシステム）を開発。 |
| 05月 | ： | TOKイタリア社を設立。 |
| 07月 | ： | OCD Type-9（低誘電率タイプ有機SOG）を開発。 |
| 09月 | ： | SST-3（変質膜除去用ポジ型フォトレジスト剥離液）を開発。 |
| 10月 | ： | CFPR BKシリーズ（LCDカラーフィルター製造用顔料分散型ネガ型フォトレジスト〈ブラックマトリクス用〉）を開発。 |
| 11月 | ： | TDUR-N908（KrFエキシマレーザー用高解像度ネガ型フォトレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | オーディルBFシリーズ（プラズマディスプレイ用リブ形成用ドライフィルムレジスト）を開発。 |
| ： | 大型角基板用省レジスト機構を開発。 |
| 1996年03月 | ： | THMR-iP3650（i線用ハイコントラストポジ型フォトレジスト）を開発。 |
|---|---|---|
| 06月 | ： | THMR-iN PS4（i線用高解像度ネガ型フォトレジスト）を開発。 |
| 07月 | ： | 相模事業所、御殿場工場でISO 9002の認証を取得。 |
| 10月 | ： | THMR-iP9600（i線用BARC用高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| ： | TCA-7822（ロードロック機構付き枚葉式高速アッシング装置）を開発。 | |
| ： | TOKイタリア社ドライフィルムレジスト工場竣工。 | |
| 1997年01月 | ： | オーディルα-700（高性能ドライフィルムレジスト）を開発。 |
| 02月 | ： | 相模事業所新研究棟完成。 |
| ： | エラスロン-EX（フレキソ印刷用感光性ゴム版）を開発。 | |
| 03月 | ： | TOKテクノサービス株式会社を設立。 |
| ： | SSシリーズ（SODスピンコーターシステム）を開発。 | |
| ： | OCD Type-12（高耐クラック性脱ガス向上型無機SOG）を開発。 | |
| 05月 | ： | オーカ・アメリカ社（現 TOKアメリカ社）オレゴン工場に海外初の半導体用フォトレジスト生産工場竣工。 |
| ： | TR39000（大型角基板対応スピンコーターシステム）を開発。 | |
| 07月 | ： | TDMR-AR80（i線用ハイコントラストポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 10月 | ： | オーディルBF-700（プラズマディスプレイ用リブ形成用高性能ドライフィルムレジスト）を開発。 |
| 12月 | ： | 郡山工場第3期工事（半導体用KrFエキシマレーザー用フォトレジスト等製造工場）を完了、製造を開始。 |
| ： | TCA-7222（300mmウェハ対応ロードロック機構付き枚葉式高速アッシング装置）を開発。 | |
| ： | SKYWALK（300mmウェハ対応SODコーター）を開発。 | |
| 1998年01月 | ： | 台湾東應化社を設立。 |
| 03月 | ： | TD39000（大型角基板対応デベロッパーシステム）を開発。 |
| 04月 | ： | 湘南工場（現 湘南テクニカルセンター）内に研究棟完成。 |
| ： | TCE-7812（ロードロック機構付き枚葉式エッチング装置）を開発。 | |
| 12月 | ： | TCA-4802（Low-k材料対応アッシング装置）を開発。 |
| ： | TDUR-P601(KrFエキシマレーザー用高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 | |
| 1999年03月 | ： | TR40000（大型角基板対応スピンコーターシステム）を開発。 |
| 05月 | ： | 材料事業本部内の全工場でISO 9002の認証を取得。 |
| 11月 | ： | 第20回東京応化セミナーを開催。 |
| ： | 台湾東應化社にて剥離液／シンナー製造工場竣工。 | |
| ： | 郡山工場、宇都宮工場、御殿場工場でISO 14001の認証を取得。 | |
| 12月 | ： | TR50000（大型角基板対応スピンコーターシステム）を発売。 |
| 2000年08月 | ： | 新本社社屋が竣工（7月／旧川崎工場跡地）、本社移転。 |
|---|---|---|
| 2001年02月 | ： | TARF-Pシリーズ（ArFエキシマレーザー用高解像度ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 03月 | ： | DELSシリーズ（プラズマディスプレイ用誘電体シート）を開発。 |
| 10月 | ： | 山梨工場エラスロン製造ライン竣工。 |
| 12月 | ： | TELR-Pシリーズ（有機ELディスプレイ用ポジ型フォトレジスト）を開発。 |
| 2002年03月 | ： | TR63000（大型角基板対応塗布・現像装置）を開発。 |
| ： | OEBR-CAN021（電子ビーム用ネガ型フォトレジスト）を開発。 | |
| 08月 | ： | シンガポール駐在員事務所を開設。 |
| ： | 郡山工場プラズマディスプレイ関連製造材料の専用工場竣工。 | |
| 10月 | ： | 上海駐在員事務所を開設。 |
| 2003年02月 | ： | 相模事業所新研究棟完成。 |
| 10月 | ： | ソウル営業所（後に韓国TOK社設立に伴い閉鎖）を開設。 |
| 11月 | ： | 流通センターを開設。 |
| 12月 | ： | TMMR（MEMS用永久フォトレジスト）を開発。 |
| 2004年09月 | ： | 韓国TOK社を設立。 |
| 10月 | ： | 長春応化（常熟）社を設立。 |
| 2005年12月 | ： | TOKヨーロッパ社（TOKYO OHKA KOGYO EUROPE B.V.）を設立。 |
| 2006年01月 | ： | オーカ・アメリカ社の社名をTOKアメリカ社（TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.）に変更。 |
| 02月 | ： | オーカ・ヨーロッパ社からTOKヨーロッパ社に営業の全部を譲渡。 |
| ： | 相模事業所研究棟完成。（最先端半導体製造用材料開発） | |
| 2007年04月 | ： | 相模事業所研究棟完成。（FPD製造用材料開発） |
| 2008年03月 | ： | 阿蘇工場管理棟完成。 |
| 2008年11月 | ： | TWM／TWRシリーズ（シリコン貫通電極形成システム）を開発。 |
| 2008年12月 | ： | TR165000FCシリーズ（フロートコーティングシステム）を開発。 |
| 2009年04月 | ： | TOKアメリカ社オレゴン工場剥離液製造棟完成。 |
| 2009年06月 | ： | EPLUS（太陽電池用拡散材）を開発。 |
